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POLOS SPIN150x 旋涂仪在科研薄膜制备中具备重要应用价值,可实现高均匀度与高重复性的涂层成膜效果。其高精度转速控制旋涂系统支持多段程序设定,满足不同材料与工艺需求,提升实验可控性。设备适用于光刻胶旋涂工艺、功能薄膜制备实验及微纳加工研究平台。品牌在结构设计与控制系统方面经验成熟,体现出稳定可靠的实验室旋涂性能。

产品特点:

一、独特的设计

独特的外壳和排水设计使得设备能够在台式和嵌入式型号之间轻松切换。模块化设计使用户能够通过使用各种不同的配件来升级设备,从而简化分配和整体操作过程。

二、电机归位

新的SPINx系列具有定义电机归零位置的能力,这使得其能够轻松集成到机器人控制或自动化环境中。

三、腔室易于访问

真空卡盘位于碗的边缘上方,使机械臂、镊子或真空棒能够轻松接触到晶圆/基板。这是实现机器人操作的一个独特要求。

四、自动盖

盖子可以通过用户界面或脚踏板自动打开和关闭(适用于手套箱)。此外,还可以在配方的最后一步自动打开盖子。

五、液体过滤器

SPINx系列配备了液体过滤阱,以保护旋涂机的关键部件。它将捕获通过工艺室或真空吸盘进入真空管路的任何液体或残留物,并将其装入液体容器中。可以通过旋杯外壳上的开孔看到容器,便于维护。

参数名称规格说明
腔室材质天然聚丙烯(NPP) 或者 PTFE
最大基板直径最大 6 英寸(150 毫米)晶圆 最大 4 英寸 x 4 英寸(100 毫米)基板
最高转速12,000 RPM
接口USB
高加速度和精度1 - 30.000 RPM
旋转方向顺时针/逆时针
显示大尺寸可拆卸触摸屏显示器.


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