赛德凯斯 KW-4C型匀胶机在实验室薄膜制备领域具有成熟可靠的应用表现，可实现均匀稳定的旋涂成膜效果。其稳定转速控制旋涂系统支持多档参数调节，适应不同黏度材料与工艺需求，提升实验重复性。设备适用于光刻胶旋涂工艺、功能薄膜制备实验及微纳加工科研研究。品牌在设备结构与控制系统方面注重实用性，体现出科研级旋涂设备稳定性能。

产品特点：

一、吸附力实时监测，特殊片托防进胶

吸附力不足报警，吸附力不足禁止启动，吸附力不足立即停转

二、可选配一次性锅内衬

方便旋涂完毕后，清理废液