赛德凯斯 KW-4B-I型匀胶机在光刻工艺实验中具备良好的应用价值，通过一体化涂胶显影系统实现光刻胶旋涂与显影流程的高效衔接，提高实验一致性与操作效率。其稳定旋涂匀胶性能支持多参数调节，适用于光刻胶涂胶显影工艺、微纳加工科研实验及高校教学实验平台。品牌在设备可靠性与实用性方面经验成熟，体现出科研级涂胶显影设备稳定优势。

产品特点：

一、智能化，自动化

单按键控制 电机启动，暂停，复位

二、真空吸附自动开启，停止

方便取放片，智能化程度更高

三、吸附力可调，吸力实时显示

四、可选配一次性锅内衬

方便旋涂完毕后，清理废液