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赛德凯斯 KW-4E-II控温型匀胶机在微纳光刻工艺中具有重要应用价值,通过集成控温型旋涂匀胶系统与显影模块,有效提升光刻胶成膜均匀性与工艺重复性。设备支持精准参数调节,满足高一致性光刻涂胶显影工艺需求,适用于半导体器件制备、MEMS微加工研究及高校科研实验平台。品牌在系统集成与稳定性设计方面成熟,展现出科研级涂胶显影设备优势。

产品特点:

一、吸附力可调,防进胶,开盖保护

实时显示真空吸附力,实时报警吸附力不足,配套显影系统

二、防飞片保护与报警,配方掉电保护

机器智能化,操作傻瓜化,方便使用,保证产品质量

参数名称格说明
支持基片尺寸5-200mm/5-600mm(选配)
可调速范围10-12000RPM/10-20000RPM(选配)
可调加速度10-30000RPM/S
转速精度±1RPM
转速稳定度±1RPM
温控范围室温-200℃
胶的均匀性±1%
加热速度至100℃(1S)、至200℃(2S)
冷却速度至室温(2S)
操作界面8寸触摸屏
可用通信接口USB(标配)/RS485(4E-I及以上标配)/蓝牙(选配)
触控笔BAMBOO电阻笔(标配)
真空泵SC-550V无油泵
设置数据无限组数据,每组15段转速(标配)或无数段转速(选配)
每段时间0-10000秒
存储数据无限组数据
数据保护默认带掉电保护功能
匀胶机供电口AC100-250V
真空泵供电口AC220V(标配) AC110V(选配)
真空泵抽速≥60L/MIN
匀胶机功率650W
真空泵功率350W
匀胶机体积340mm(W)X500mm(D)X250mm(H)
匀胶机重量18kg
泵重量9kg
腔室材质整体PTFE聚四氟材质
相对湿度< 85%
环境温度0-40℃
质保期1年


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