赛德凯斯 KW-4C-I型匀胶机在光刻实验中具有良好的应用价值，可实现均匀稳定的涂胶与显影处理。其集成式旋涂匀胶系统支持多参数调节，满足不同光刻胶工艺需求，提高实验重复性与成膜一致性。设备适用于基础光刻涂胶显影工艺、微纳加工科研实验及高校教学实验平台。品牌注重系统实用性与可靠性，体现出科研级涂胶显影设备性能优势。

产品特点：

一、吸附力可调，防进胶，开盖保护

实时显示真空吸附力，实时报警吸附力不足，配套显影系统

二、防飞片保护与报警，配方掉电保护

机器智能化，操作傻瓜化，方便使用，保证产品质量