赛德凯斯 KW-4BC-I型匀胶机在光刻工艺实验中具备良好的应用价值，通过集成式匀胶显影系统实现涂胶与显影流程的高效衔接，提升实验效率与一致性。设备支持多参数调节，满足光刻胶涂胶显影工艺对稳定性与重复性的要求，适用于微纳加工科研实验、半导体基础研究及高校教学实验平台。品牌注重系统结构可靠性，体现出科研级涂胶显影设备性能优势。

产品特点：

一、配备防进胶模组

有效解决旋涂中进胶问题，延长电机使用寿命

二、可选配一次性锅内衬

方便旋涂完毕后，清理废液