控制温升的核心是把“光照带来的热量”从反应体系里稳定带走，并把温度作为与光强同等级别的受控变量记录下来。实践中可按下面顺序处理：
1）先把温度监测做成硬指标
反应液中放入温度探头或贴壁测温（尽量固定同一位置），从开灯前到结束全程记录。只要发现温度曲线在不同批次之间不一致，就先不要做材料优劣结论，先把控温条件统一。
2）优先用循环水控温稳定反应器
反应器带夹套的，用恒温循环水把体系锁在目标温度（常见做法是 20–25℃或按你的体系设定）。
没夹套时，可用外置水浴/冷却槽固定反应器外壁温度。
控温的关键不是“冷得越多越好”，而是每次都能稳定在同一温度区间。
3）使用水滤光或热隔离，先削掉红外热量
氙灯高功率下红外成分会显著抬升体系温度。常见做法是在光路中加入水滤光片/水过滤（或配置具备热吸收能力的滤光组件），把主要热源隔离在反应器之外，避免“光照=升温”的耦合。
4）拉开灯距与优化光斑，减少局部过热
将光源与液面距离调到既能满足目标光强、又不过分集中；必要时用匀光片/调整光斑，让受光更均匀。局部热点会带来假性速率提升，尤其在小体积反应器里更明显。
5）用间歇照射或分段运行控制热积累
当你必须用较高光强但控温能力不足时，可采用“照射—暂停—再照射”的方式让体系回到设定温度，再继续采样。关键是把每次的节奏固定，避免不同样品用不同温度轨迹比较。
6）把搅拌与气体条件固定，避免“边控温边改变传质”
加强搅拌有助于均温，但也会改变传质与溶氧；通气（空气/氧气/氮气）同样会影响温度与反应速率。建议把搅拌转速、气体流量作为固定参数写进实验记录，避免温升控制带来新的变量。
7）做“暗反应+恒温空白”对照，识别热效应占比
暗反应：验证是否存在非光照驱动的吸附/自发降解。
恒温空白：在相同温度下比较不同光照条件，确认速率变化主要来自光而不是热。
当温升不可避免时，用对照把热贡献量化，会比单纯“尽量降温”更可靠。