助研 PECVD ZYE-1200-PE 在薄膜材料制备中具有显著的科研应用价值，可实现高质量、可重复的薄膜生长。其等离子化学气相沉积系统支持低温工艺与精确参数控制，提升PECVD薄膜沉积均匀性与稳定性。设备广泛适用于半导体薄膜制备、光电功能材料研究及新型材料表面改性等领域。助研品牌在科研设备领域经验丰富，产品以高可靠性PECVD实验设备和完善技术支持赢得用户信赖。

产品特点：

1.为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种 CVD 称为等离子体增强化学气相沉积法 (PECVD)；

2.它是由 500W 射频电源、1200℃单温区管式炉、三通道质量流量混气系统和真空系统组成；

3.此款 PECVD 系统用于生长纳米线、石墨烯或 SIC 薄膜等。